1nm以下
「1nm以下」熱門搜尋資訊
「1nm以下」文章包含有：「1nm以下關鍵技術Intel研發2D晶片製程」、「IBM與三星以VTFET設計實現1nm以下製程技術，但Intel已經...」、「IMEC發表以Chiplet為基礎1奈米以下製程」、「MoS2電晶體閘極長度突破1nm以下」、「不要EUV光刻机，让1nm以下的芯片自己长出来」、「台積電1nm以下製程取得重大突破，已發表於Nature」、「台積電跑在最前面！1nm以下製程「新突破」，IBM註定無法超越」、「將CFET用於1nm及以下節點製程」、「摩爾定律將延續，imec制定...
查看更多
1nm以下關鍵技術Intel研發2D晶片製程
https://news.xfastest.com
10nm製程以下製造難度加大，未來10年還要進入1nm製程以下節點，迫切需要更先進的技術。 於此領域，Intel率先在22nm製程進入FinFET電晶體時代，於20A、18A ...
IBM與三星以VTFET設計實現1nm以下製程技術，但Intel已經 ...
https://m.eprice.com.tw
不過，台積電已經在今年5月宣布與台灣大學、麻省理工學院共同研究，透過鉍金屬特性突破1nm製程生產極限，讓製程技術下探至1nm以下。
IMEC 發表以Chiplet 為基礎1 奈米以下製程
https://technews.tw
比利時微電子研究中心(IMEC) 發表1 奈米以下製程藍圖，分享對應電晶體架構研究和開發計畫。 外媒報導，IMEC 製程藍圖顯示，FinFET 電晶體將於3 奈米達 ...
MoS2電晶體閘極長度突破1nm以下
https://www.edntaiwan.com
研究團隊在該期刊論文中介紹如何成功製備具有垂直結構的超小型MoS2電晶體，首次實現0.34nm的有效閘極長度。 此外，研究人員也介紹如何實現sub-1nm閘極長的 ...
不要EUV光刻机，让1nm以下的芯片自己长出来
https://mp.ofweek.com
目前芯片制造领域的技术，主要就是光刻技术。 而光刻技术下，光刻机的分辨率就决定了芯片的工艺，比如7nm以下的芯片，必须用到EUV光刻机；而7-45nm的 ...
台積電1nm 以下製程取得重大突破，已發表於Nature
https://news.xfastest.com
台積電於17日聯合台大、麻省理工宣佈，在1nm 以下晶片方面取得重大進展，研究成果已發表於Nature。 ... 該研究發現，利用半金屬鉍Bi 作為二維材料的接觸電極 ...
台積電跑在最前面！1nm以下製程「新突破」，IBM註定無法超越
https://inf.news
近日，美國科技巨頭IBM突然宣布，已經造出了全球第一顆2nm製程半導體晶片，據官方介紹稱，新的技術可以在150平方毫米大小面積內，容納500億顆電晶體。
將CFET用於1nm及以下節點製程
https://www.eettaiwan.com
互補式場效電晶體(CFET)在4T軌道單元設計中優於叉型片電晶體(forksheet transistor)，使其成為1nm以下邏輯技術節點的極具吸引力的元件架構。
摩爾定律將延續，imec 制定1 奈米以下製程技術與晶片設計 ...
https://technews.tw
imec 就提出1 奈米以下至2 埃米（A2）半導體製程技術和晶片設計路徑，延續摩爾定律。 Luc van den Hove 提到幾代器件架構，從FinFET 器件到插板和原子通道 ...
為1nm 以下工藝做準備，Intel 正研發2D TMD 材料技術
https://qooah.com
按照摩爾定律，未來10年晶片要實現1nm 以下節點，這需要更加先進的技術才能實現。目前Intel 率先在22nm 節點進入FinFET 晶體管，而在20A、18A 節點 ...