多層 光阻 技術：TWI587093B
TWI587093B
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工學院半導體材料與製程設備學程
https://ir.nctu.edu.tw
光學微影技術的原理是將原本要製作的圖案預先製作於光罩. 上，再利用曝光的方式將圖案轉印到塗有光阻的晶圓上。圖2.3 為光. 學微影技術的主要製程流程圖，整個光學微影技術 ...
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半導體光阻
https://www.sumika.com.tw
半導體光阻為形成高密度且多層結構電路時，製程上不可或缺的感光材料。住友化學以基礎深厚的化學合成技術為根本，開發完整的光阻產品線，包含i-line、KrF、ArF和最先端 ...
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IC光阻市場及技術發展趨勢
https://www.materialsnet.com.t
故所謂ESCAP光阻其實就是改質的T-. BOC光阻，其Tg 通常低於90-100°C。綜. 合以上三種類型光阻，應用在IC製程上. 仍有其優缺點。 四、多層光阻系統-含矽光阻材料. 面對多達 ...
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三層型光阻結構和其製造方法
https://patentimages.storage.g
... 多層型光阻. 設計來提升線寬均勻度、解析度和敏感度,最常使用的則是. 三層型光阻 ... 曝光方法可以使用浸潤式或乾燥式(非浸潤)微影技術。曝光. 能量介於約10至80毫焦耳(mJ)/ ...