多層 光阻 技術：半導體光阻
半導體光阻
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TWI587093B
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為了挑戰這項極限，使用了兩層或多層型光阻設計來提升線寬均勻度、解析度和敏感度 ... 曝光方法可以使用浸潤式或乾燥式(非浸潤)微影技術。曝光能量介於約10至80毫焦耳 ...
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工學院半導體材料與製程設備學程
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光學微影技術的原理是將原本要製作的圖案預先製作於光罩. 上，再利用曝光的方式將圖案轉印到塗有光阻的晶圓上。圖2.3 為光. 學微影技術的主要製程流程圖，整個光學微影技術 ...
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IC光阻市場及技術發展趨勢
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故所謂ESCAP光阻其實就是改質的T-. BOC光阻，其Tg 通常低於90-100°C。綜. 合以上三種類型光阻，應用在IC製程上. 仍有其優缺點。 四、多層光阻系統-含矽光阻材料. 面對多達 ...
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三層型光阻結構和其製造方法
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... 多層型光阻. 設計來提升線寬均勻度、解析度和敏感度,最常使用的則是. 三層型光阻 ... 曝光方法可以使用浸潤式或乾燥式(非浸潤)微影技術。曝光. 能量介於約10至80毫焦耳(mJ)/ ...