Mask Aligner：Auto Mask Aligner
Auto Mask Aligner
產品簡介·Exposurelightsource:3.5KW、5KW、8KW、10KW·SubstrateSize:4.5~12方形基板·Uniformity:≦5%·AlignmentAccuracy:±5um·Throughput:8~10pnl/min.。其他文章還包含有：「Aligner(semiconductor)」、「ManualMaskAligner」、「Semi」、「光學微影系統(MaskAlignerandExposureSystem)」、「光罩對準曝光機(MaskAligner德國Karl」、「曝光機MaskAligner設備如何執行量測？」、「曝光機SüssMicroTecMJB3MaskAligner...」、「...
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Aligner (semiconductor)
https://en.wikipedia.org
An aligner, or mask aligner, is a system that produces integrated circuits (IC) using the photolithography process. It holds the photomask over the silicon ...
Manual Mask Aligner
https://www.mrnanotec.com.tw
Manual Mask Aligner. 首頁 · 產品與服務 · 半導體設備; Manual Mask Aligner. 6吋垂直式曝光機. 雙面對準單面曝光機. 雙面曝光機. 簡易型曝光機. 水平式曝光機. 旋轉式 ...
Semi
https://www.mrnanotec.com.tw
基本規格 · Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW · Substrate Size: 2~12 · Uniformity: ≦ 5% · Alignment Accuracy: ± 1um · Throughput: ≧ 70wph ...
光學微影系統(Mask Aligner and Exposure System)
http://www.nano.nsysu.edu.tw
中文名稱：光學微影系統(含光罩對準機Mask Aligner、光阻旋轉塗佈機spin-coater、烤盤hot-plate). 英文名稱：Mask Aligner and Exposure System. 二、儀器廠牌、型號 ...
光罩對準曝光機(Mask Aligner 德國Karl
https://web.phys.ntu.edu.tw
光罩對準曝光機(Mask Aligner 德國Karl-Suss)操作程序. 1、在使用登記表登錄使用人及開機時間。 2、打開右邊鐵架上之汞燈電源(須熱機20 分鐘以上，光源才會穩定)。 3 ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測？
https://www.goodtechnology.com
是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷 ...
曝光機Süss MicroTec MJB3 Mask Aligner ...
https://dop.nsysu.edu.tw
名稱： 曝光機Süss MicroTec MJB3 Mask Aligner (Mask Aligner) ; 用途： 光罩對準、曝光 ; 管理者： 邱逸仁/ 方溢薪 ; 放置位置： 工EC4007 ; 連絡電話或分機 · 4472.
自動光罩對準曝光機
https://www.suss.com
SUSS MicroTec為高端晶圓廠自動化、量產和研發環境提供系列光罩對準曝光機。SUSS MicroTec設計的光罩對準曝光機系統，適用于3D封裝、先進封裝、MEMS、LED、化合物半導體、 ...