深紫外光機：半導體廠深紫外光(248奈米波長)雷射曝光機
半導體廠深紫外光(248奈米波長)雷射曝光機
ASML
https://www.asml.com
我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
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極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少，關鍵 ...
台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密
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在2004年之前，光刻設備機主要以光為介質，偏偏這個時候，台積電的研發副總林本堅 ... DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme ...
小辭典》什麼是DUV設備？
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微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片，又稱蝕刻機、光刻機；波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源，再來是深紫外光源（Deep ...
挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程
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EUV 光的產生是用二氧化碳雷射每秒5 萬次去轟擊液態錫滴。出來的EUV 光通過一個直徑為0.65 公尺的橢球反光鏡送進微影機台裡頭。錫滴位於橢球反光 ...
極紫外光EUV微影是什麼？影片直擊台積電拚5奈米的關鍵 ...
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ASML的EUV極紫外光機台專門曝光最複雜、精細的線路圖案，而DUV深紫外光微影設備就用來曝光「比較不這麼精密」的線路圖案。 責任編輯：蕭閔云. 想成為 ...
極紫外光微影製程
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極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影 ...
美國與荷蘭聯手揮出「組合拳」 DUV也不能直接賣給中芯國際 ...
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... 深紫外光（DUV）曝光機（光刻機）必須先申請出口許可。ASML最先進的機台極紫外光（EUV）光刻機早在2019年就受到限制，至今都不能賣至中國。 ASML的DUV ...