旋轉塗佈厚度：COATING製程塗佈鍍膜不均勻？
COATING製程塗佈鍍膜不均勻？
【為台灣加油打氣專欄】我國的塗佈機技術
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光阻塗佈是半導體製程中一個非常重要的步驟，我們經常要在晶圓上塗佈一層光阻劑，其厚度最薄可能是100奈米（1奈米=十億分之一米），最厚可能是50微米（1 ...
以二氧化鈦為基礎的薄膜(下)
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將少量溶膠或凝膠塗佈在基底的中心，接著將基材在高速旋轉下利用離心力散布塗料，繼續轉動使流體旋轉至基材邊緣直到達到所需的膜厚。該薄膜的厚度取決於 ...
塗佈機
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塗佈膜厚均一性良好，但最重要的控制是在於化學物質的厚度，即稱為膜厚(Film Thickness)，控制參數. 是旋轉數(RPM)及旋轉時間，轉數越快膜厚越薄，旋轉時間越長膜厚越薄， ...
大面積基板塗佈製程解析
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旋轉塗佈是流體離心力與黏滯力. 平衡的結果，光阻在基板上的厚度依黏. 度、轉速及旋轉時間而定。若光阻是牛. 頓流體，則光阻厚度與所在位置無關，. 即從中心到邊緣厚度都 ...
旋轉塗佈光阻液厚度及均勻度實驗分析
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... 厚度及均勻度有所影響；光阻液的黏度與溶劑的揮發性都會影響到旋轉塗佈薄膜的厚度，黏度越大薄膜會越厚，揮發性越大薄膜會越厚；旋轉時間增加雖然可使旋轉塗佈薄膜的厚度 ...
旋轉塗佈技術簡介
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優點. - 操作簡單，產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%)，大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。
旋轉塗佈精準定量注料解決方案
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旋轉塗佈(Spin Coating)是利用轉盤高速旋轉離心力，將基材上的塗料進行厚度均化的過程，在平滑的工件上獲得薄且均勻的塗膜。旋轉塗佈的應用常見包括在半導體、平面 ...