obirch原理:芯片失效分析中OBIRCH
芯片失效分析中OBIRCH
失效分析定位OBIRCH工作原理
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雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)
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OBIRCH常用於晶片內部電阻異常(高阻抗/低阻抗)、及電路漏電路徑分析。可快速對電路中缺陷定位,如金屬線中的空洞、通孔(via)下的空洞,通孔底部高電阻區 ...
雷射致阻值變化偵測(OBIRCH)
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IR-OBIRCH 的全名為InfraRed Optical Beam Induced Resistance Change,顧名思義為雷射光束引生的電阻變化異常檢驗,其原理是利用波長為1340nm 的雷射掃描IC,造成掃描 ...
OBIRCH的工作原理
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OBIRCH的工作原理如下: 以激光束在IC表面扫描,激光束的部分能量被IC吸收转化为热量,造成被扫瞄区域温度变化,若IC金属互联机中存在缺陷或者空洞, ...
电性失效分析(EFA)
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IR-OBIRCH的全名为InfraRed Optical Beam Induced Resistance Change,顾名思义为雷射光束引生的电阻变化异常检验,其原理是利用波长为1340nm的雷射扫描IC,造成扫描点 ...
漏电定位分析EMMI,OBIRCH
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OBIRCH的工作原理如下: 以激光束在IC表面扫描,激光束的部分能量被IC吸收转化为热量,造成被扫瞄区域温度变化,若IC金属互联机中存在缺陷或者空洞 ...
名針探精準定位讓奈米電性量測找出缺陷
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EBIRCH 的原理與雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)相同,差異只是在OBIRCH 所用的激發源為「雷射」,受限於雷射波長的關係,其空間解析度約為微米(µm ...
【IC器件失效點定位方式的應用:光子激發與熱輻射偵測】蔚 ...
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這篇文章我們會針對光子激發及熱輻射訊號作介紹,關於另一項常用的雷射光束引生的電阻變化異常檢驗(OBIRCH)在於下一篇文章做介紹。 光子激發的偵測原理(EMMI detector).