半導體濕製程設備：濕製程設備&化學系統
濕製程設備&化學系統
Wet Process 濕蝕刻設備
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全機槽體、管路、線材、機構皆有防爆與導靜電設計，安全性高○ 軟體皆為GPM自行開發設計，可配合製程&設備部門要求即時修改○ 可調整Bench流場、上下Agitation與晶圓 ...
先進封裝濕式設備廠弘塑，燒錢十年只做這件事！
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弘塑即將邁入30年，是業界現存最久、全台市占率最高的半導體濕式製程設備公司。 ... 半導體濕製程的設備，主要是由台灣的弘塑和辛耘兩大廠家供應。 但翻開兩 ...
化學濕製程
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Manz的化學濕製程設備採用在線式製程設計，在玻璃基板、印刷電路板、矽晶圓以及軟性薄膜(捲對捲製程)等處理上擁有傑出表現。在製程、機台與相關元件的研發階段， ...
半導體濕製程設備
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千謄半導體設備製造,濕製程設備,半導體清洗設備,蝕刻,超音波清洗機,乾冰清洗機,濕式製程相關設備,特殊製程設備開發,半導體設備,塗佈,超音波清洗機,乾冰清洗機,FTC設備 ...
半導體濕製程設備，單晶圓清洗機
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GKC積凱科技成立以來，即致力於半導體及電子業濕式機台的設計和製造，提供各式單晶圓（Single Wafer）製程設備和溼式工作台（Wet Bench），並提供客製化服務。
批次式晶圓濕製程設備(Wet Bench Process)
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全新開發的設備功能，可實現更小佔地面積、卓越生產力、極佳清潔效果的批次設備(Bench Wet Equipment)。 應用範圍：. 半導體前段製程(Semiconductor) ...
濕式製程設備
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主要應用於半導體晶圓製造，封裝過程中的化學清洗和蝕刻. Ultron S300 Series. 設備特點. 占地面積小，8英吋占地8.94m2，12英吋占地10.94m2，模塊化設計，易於維護和設置 ...
高階濕制程清洗設備
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高階濕制程清洗設備 ; 1.晶圓清洗: 高效FFU及排風系統，高度潔淨及安全的環境，達到ISO Class3潔淨度標準。 清洗後高潔淨度表現。 ; 2.濕法蝕刻/顯影: 高均勻性蝕刻及顯影。