倍縮光罩優點:光罩

光罩

光罩

為了區別接觸式曝光中使用的光罩,投影式曝光中使用的光罩又被稱為倍縮式光罩(reticle)。光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。。其他文章還包含有:「工學院半導體材料與製程設備學程」、「第一章緒論」、「黃光微影製程技術」、「光阻劑」、「IC縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC愈變愈小」、「TWI477927B」、「〈研之有物〉IC縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC愈變...」、「IC縮小術!林...

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工學院半導體材料與製程設備學程
工學院半導體材料與製程設備學程

https://ir.nctu.edu.tw

... 好處. 是當線寬越來小時,光罩的製作相對會較容易,且光罩. 上的誤差也會相對被縮小,這種形式的光罩被稱為倍縮. 光罩(Reticle)。步進式曝光機每次曝光時僅在晶圓上的局.

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第一章緒論
第一章緒論

https://ir.nctu.edu.tw

4、以倍縮的方式轉移光罩圖案,可降低光罩上微粒的影響,提高對微粒的容忍度。 但因為對晶圓每次投影的面積縮小,曝光的次數相對增加,必須不斷移動晶圓位 ...

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黃光微影製程技術
黃光微影製程技術

http://semi.tcfst.org.tw

光罩的圖形比所要的圖. 形放大五倍或十倍,光. 源透過光罩後,再經過. 適當的聚焦,將比例縮. 為所要的大小而投射在. 部分的晶片上,故整片. 晶片都要曝光的話,得. 進行重 ...

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光阻劑
光阻劑

http://homepage.ntu.edu.tw

光罩/倍縮光罩. 曝光. 經顯影. 負光阻. 紫外光. 正光阻. 基片. 基片. 基片. 光阻. 負光阻及 ... 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. • 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負 ...

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IC 縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC 愈變愈小
IC 縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC 愈變愈小

https://technews.tw

簡單說,將密集圖案分工給兩個以上圖案較寬鬆的光罩,輪流曝光至晶圓,可避免透光區過於接近,使圖案模糊的問題。缺點則是曝光次數加倍,等於效率降低一半 ...

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TWI477927B
TWI477927B

https://patents.google.com

為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂,下文特舉出較佳實施例 ... 罩幕(photo mask)或倍縮光罩(reticle)。於本發明中,輻射源(radiation source)102 ...

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〈研之有物〉IC縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC愈變 ...
〈研之有物〉IC縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC愈變 ...

https://news.cnyes.com

簡單來說,它將密集的圖案分工給兩個以上圖案較寬鬆的光罩,輪流曝光在晶圓上,這樣可以避免透光區過於接近,使圖案模糊的問題。缺點則是因為曝光次數加倍 ...

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IC 縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC 愈變愈小
IC 縮小術!林本堅院士談光學微影如何把IC 愈變愈小

https://research.sinica.edu.tw

... 縮IC 百萬倍」為題目,分享了光學微影這一路走來,如何將半導體元件尺寸愈縮 ... 移相光罩則是在光罩上動些手腳,讓穿過相鄰透光區的光,有180 度的相位差 ...