乾蝕刻種類：第四章個案分析與結果

Chap9 蝕刻(Etching)

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◇乾蝕刻的非等向性主要是利用粒子轟擊的物理現象進行，. 這種粒子轟擊的現象，不但可以在被蝕刻的薄膜上進行，. 也可以在光阻上發生。 ◇蝕刻好壞的依據. ➢ 非等向性. ➢ ...

乾蝕刻技術

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蝕刻沒有液態的蝕刻. 溶液，主要分為物理濺. 擊或離子銑削、電漿蝕. 刻、與介於兩者之間的. 活性離子蝕刻三類，右. 圖是三者蝕刻特性與壓. 力、激發能量的分類關. 係圖。

晶圓製程中的乾蝕刻與濕蝕刻是什麼?

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利用化學反應將薄膜予以加工，使獲得特定形狀的作業稱為蝕刻。蝕刻可分為乾式蝕刻與濕式蝕刻兩種。 最常使用的乾式蝕刻為平行板反應性離子蝕刻。

第二章 感應耦合電漿蝕刻與AlGaNGaN HEMT

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蝕刻(Etching)

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表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻. ▫. 選擇性蝕刻或整面全區 ... 三基本步驟：蝕刻、沖洗、旋乾. Page 5. 5. 9. 濕式蝕刻的應用. ▫. 濕式蝕刻不可在當 ...

蝕刻

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蝕刻 編輯 · 乾式蝕刻：透過電漿的解離，形成離子與物質表面進行化學反應或是物理轟擊，屬於非等向性的蝕刻。 · 濕式蝕刻：利用化學的液體與物質進行化學反應。屬於等向性的 ...

蝕刻技術

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▫ 晶片旋乾機（3、4）. 各1台. ▫ 注水鵝頸龍頭、DI水槍. 、氮氣槍、煮酸加墊板 ... 加速蝕刻物垂直方向蝕刻率，而. 得到異向蝕刻的結果。 ▫ 氣態式及電漿式(現多採用) ...

蝕刻技術(Etching Technology)www.tool

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蝕刻技術可以分為『濕蝕刻』(wet etching)及『乾蝕刻』(dry etching)兩類。在濕蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，而乾蝕刻通常是 ...