psm光罩：先進光罩製作技術的挑戰
先進光罩製作技術的挑戰
Photomask Equipment
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基板類型覆蓋了各種材料的傳統二元光光罩到相移光罩（PSM）。在光光罩生產過程中、最終使用者（設備製造商）的應用過程中，每一種都需要匹配的清洗技術。 一個全面的 ...
光罩
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PSM為Phase Shift Mask(相位差光罩)，膜種由原本Cr膜變更為Phase Shift膜，以下簡稱PS膜。 此材料特點在於當光線經過glass及PS膜後其波長會有180度的相位反轉，利用此相位 ...
光罩工業及其製程技術之探討
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在光罩的製作技術部分，大致可以分成傳統光罩、相位移光罩技術（ Phase Shift Mask；簡稱PSM）、光學近接修正光罩技術（Optical Proximity Correction；簡稱OPC）等三種。
半導體器件用光掩模
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移相掩模（Phase-Shifting Photomask） ... 移相掩模（Phase-Shifting Mask：PSM）指透過控制光的相位及透過率，改善對晶圓曝光時的分辨率及焦點深度（DOF：Depth of Focus） ...
工學院半導體材料與製程設備學程
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1. 交替式相位移光罩(Alternating Phase-Shifting Mask, Alt-PSM). 交替式相位移光罩為Levenson 等人所發明，主要在鉻膜圖案. (Chrome Feature)間加入相位移層(Shifter) ...
相轉移光罩技術
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接觸窗一般是整套光罩中最先使用. 相轉移光罩(PSM, Phase-Shift Mask)的；. 常用型態有兩種，一為Rim-Type，另一. 為Attenuated Type。 1. Rim-Type. 一般製造此型光罩是將 ...
關於光罩
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由於積體電路製程中的對準技術需要，OPC光罩(Optical Proximity Correction Mask)、PSM光罩(相位移光罩技術光罩Phase Shift Mask)被廣泛使用在8吋及12吋晶圓廠，各晶圓廠 ...
隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案
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... 光罩基板，包含改善的CD表現與更高的解析度。 相位移光罩. 相位移光罩（PSM）已通過控制相位移和透光率，相位移光罩在晶圓轉印能力的改善上提供了更大的DOF（聚焦深度）。