光罩等級

CTIMES

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一般而言，光罩解析度視不同技術世代及應用層（layer），定有不同的光罩等級（Mask grade），每種光罩等級有其相對應的品質規格，其規範品質重要項目包括 ...

https

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半導體用光阻劑之發展概況

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正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離；反之，若光阻劑在UV照射後，顯影液無法帶離，則為負型光阻劑。光阻劑的技術研發因 ...

工學院半導體材料與製程設備學程

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X 光微影技術由於X 光偏折困難，因此必須使用1:1 倍率. 的光罩來進行投影曝光，由於奈米等級的1:1 倍率X 光光罩製作相當困. 難，加上高劑量X 光光源取得不易，且X 光能量大 ...

晶圓良率

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光罩上的粒子污染效應. 在光罩上. 的顆粒. 正光阻上. 的殘留物. 負光阻上 ... 依聯邦標準209E定義所製定之空氣含微粒子的. 潔淨等級表. 等級. 粒子總數/立方英尺.

標準產品

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隨著晶圓代工廠IC晶片製造的不斷發產及進步，臺灣光罩提供一般Binary光罩外，更提供高階制程需求的KrF 及ArF光源相位移光罩(PSM)。 相關光罩規格參考如下. 5X , 4X , 2.5X ...

隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案

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光罩是在積體電路，如LSI，的製造過程中使用的必要基本設備。它是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為晶圓製造廠大量生產所 ...

黃光微影製程技術

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晶圓為Prime等級 ... 光罩. 光阻. 紫外光曝光. 薄膜. 基板. 基板. 薄膜. 正光阻. 負光阻 ... 光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移.