Toppan Photomask:Toppan Photomask與IBM簽署半導體EUV光罩聯合研發協議
Toppan Photomask與IBM簽署半導體EUV光罩聯合研發協議
2024年2月7日—東京2024年2月7日/美通社/--居於全球領先地位的半導體光罩供應商ToppanPhotomask宣布已與IBM就使用極紫外(EUV)光刻技術的2奈米(nm)節點邏輯半導體光罩 ...。其他文章還包含有:「ToppanPhotomask」、「ToppanPhotomask与IBM签署半导体EUV光掩模联合开发协议」、「ToppanPhotomask支持全球半導體產業和電子產業的發展。」、「企業概要」、「光掩模」
查看更多 離開網站2nm及更高節點的半導體量產需要先進的材料選擇和製程控制知識,這遠遠超出了使用ArF準分子雷射作為光源的傳統主流曝光技術的要求。IBM和ToppanPhotomask協議整合這些重要材料和流程控制技術,為2nm及更高節點的量產提供解決方案。IBM和ToppanPhotomask有著長久的技術合作歷史。2005年至2015年,IBM和ToppanPhotomask(當時的凸版印刷)一直共同推進先進半導體光罩的研究開發。聯合開發從45nm節點開始,範圍擴大到32nm、22/20nm、14nm節點,及初步的EUV研發活動。所累積的技術專長為全球半導體產業的發展做出了貢獻。此後,ToppanPhoto...
Toppan Photomask
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Toppan Photomask is the world's premier provider of photomasks for semiconductors. Headquartered in Tokyo, Toppan Photomask was launched in April 2022 as a ...
Toppan Photomask与IBM签署半导体EUV光掩模联合开发协议
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东京2024年2月7日–全球领先的半导体光掩模供应商Toppan Photomask宣布,已与IBM就使用极紫外(EUV)光刻技术的2纳米(nm)逻辑半导体工艺节点光掩模的联合 ...
Toppan Photomask支持全球半導體產業和電子產業的發展。
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產品. 光掩模用於在玻璃基板的遮光膜上形成非常微細的電路圖案,是將複雜的半導體器件的電路刻畫到硅晶圓上時的原版。除了用於製造半導體器件的光掩模外,本公司還開發並 ...
企業概要
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企業概要 · 1900年. 凸版印刷合資公司成立 · 1908年. 改組為凸版印刷株式會社 · 1961年. 用於製造硅三極管的光掩模試製成功 · 1968年. 在朝霞工廠精密部件樓建成潔淨室三極管光 ...
光掩模
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On April 1st, 2022, Toppan Photomask Co., Ltd. took over the. 如果您註冊為收藏夾或書籤,請更改為下面的新地址。 https://www.photomask.co.jp/tc/ · Site Map ...