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Toppan Photomask

「Toppan Photomask」文章包含有:「ToppanPhotomask」、「ToppanPhotomask与IBM签署半导体EUV光掩模联合开发协议」、「ToppanPhotomask支持全球半導體產業和電子產業的發展。」、「ToppanPhotomask與IBM簽署半導體EUV光罩聯合研發協議」、「企業概要」、「光掩模」

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Toppan Photomask
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Toppan Photomask is the world's premier provider of photomasks for semiconductors. Headquartered in Tokyo, Toppan Photomask was launched in April 2022 as a ...

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Toppan Photomask与IBM签署半导体EUV光掩模联合开发协议
Toppan Photomask与IBM签署半导体EUV光掩模联合开发协议

https://www.holdings.toppan.co

东京2024年2月7日–全球领先的半导体光掩模供应商Toppan Photomask宣布,已与IBM就使用极紫外(EUV)光刻技术的2纳米(nm)逻辑半导体工艺节点光掩模的联合 ...

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Toppan Photomask支持全球半導體產業和電子產業的發展。
Toppan Photomask支持全球半導體產業和電子產業的發展。

https://www.photomask.co.jp

產品. 光掩模用於在玻璃基板的遮光膜上形成非常微細的電路圖案,是將複雜的半導體器件的電路刻畫到硅晶圓上時的原版。除了用於製造半導體器件的光掩模外,本公司還開發並 ...

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Toppan Photomask與IBM簽署半導體EUV光罩聯合研發協議
Toppan Photomask與IBM簽署半導體EUV光罩聯合研發協議

https://www.prnewswire.com

東京2024年2月7日 /美通社/ -- 居於全球領先地位的半導體光罩供應商Toppan Photomask宣布已與IBM就使用極紫外(EUV)光刻技術的2奈米(nm)節點邏輯半導體光罩 ...

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企業概要
企業概要

https://www.photomask.co.jp

企業概要 · 1900年. 凸版印刷合資公司成立 · 1908年. 改組為凸版印刷株式會社 · 1961年. 用於製造硅三極管的光掩模試製成功 · 1968年. 在朝霞工廠精密部件樓建成潔淨室三極管光 ...

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光掩模
光掩模

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On April 1st, 2022, Toppan Photomask Co., Ltd. took over the. 如果您註冊為收藏夾或書籤,請更改為下面的新地址。 https://www.photomask.co.jp/tc/ · Site Map ...