薄膜製程目的：半導體製程(二)

TWI512139B

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隨著半導體製程技術的演進，已有愈來愈多的產品需要使用薄膜製程設備，在基板上成長一層薄膜。然而，目前主要用來成長薄膜的方法有幾種，包括蒸鍍法(spattering)、層積法( ...

〈工業技術與資訊〉先進半導體薄膜設備智慧製程技術

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... 薄膜製程，可說是晶圓加工的基礎。當一片片晶圓製造完成後，就會進入加工階段，首先會在晶圓表面鍍上薄膜，依據發光、導電或保護等不同需求，這層薄膜 ...

先進半導體沉積和蝕刻設備技術發展與產業觀察

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薄膜製程是在高真空的腔體中、將欲沉積的材料加熱並通入，使此氣體附著於 ... 蝕刻製程的目的是為了製作特定圖樣，透過移除晶圓表面的特定區域來完成 ...

薄膜

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在高真空的容器中、將欲沉積的材料加熱直至汽化升華、並使此氣體附著於放置在附近的基板表面上、形成一層薄膜。依沉積材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 ...

薄膜、薄片製造中的塗佈和塗裝

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KEYENCE「製程中的『塗佈』」， ... 在此根據黏合（積層）和鍍膜（功能附加和表面處理）的各目的對薄膜和薄片上的塗佈進行分類和說明。

薄膜技術Thin film www.tool

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薄膜製程為一個極為要的關鍵步驟，其主要用途為低阻閘電極、元件間連線、導體(線)接觸、擴散障礙層，如圖七(a)。另外，光學薄膜製程技術一直是光學 ...

薄膜技術之現況與展望

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