Half Tone mask:Mask Blanks
Mask Blanks
Half Tone Mask
http://www.ulcoat.com.tw
Half Tone Mask是利用「半透過」的膜,來進行半曝光。因是在1次曝光過程後即可呈現出「曝光部分」「半曝光部分」及「未曝光部分」之3種曝光層次,故在顯影後能夠形成2 ...
Halftone mask and method for making pattern substrate ...
https://patents.google.com
A halftone mask includes translucent film patterns for forming a middle gradation area and light blocking film patterns disposed to an entire periphery of ...
IC光罩應用介紹及其未來發展
https://www.materialsnet.com.t
光罩(Half Tone Phase Shift Mask, HTPSM). 為目前工業界使用的主要種類。半透式 light source photomask semiconductor wafer. Cell design. Required pattern on mask.
你对Mask的了解可能是错的!在LGD和三星产线上的 ...
https://www.hangjianet.com
Half-tone Mask: 除去以上两个区域外, 该Mask 上还存在半透明区域。通过控制半透明区域的光透过量可以控制下方PR 胶刻蚀后的图案的高度。该Mask 亦被称为 ...
光罩
https://finex-tech.com.tw
另一方面,Half-tone mask是利用「半透過」的膜,來進行半曝光。因為以上兩種方式皆是在1次的曝光過程後即可呈現出「曝光部分」「半曝光部分」及「未 ...
光罩基板
https://www.topco-global.com
而製作光罩的基礎材料,即光罩基板(Mask Blanks)。最主要的產品依基板特性分為Binary及Half-Tone(KrF/ArF)兩種,若再依所塗佈的光阻分類,可再細分成Optical resist及E ...
光罩工業及其製程技術之探討
https://www.ctimes.com.tw
... Half Tone Phase Shift Mask)。業界使用的半透光材料主要是氮氧基矽化鉬(MoSiOxNy),日本供應商已用MoSiOxNy做出6%透光率的空白片(mask blanks),適用193nm波長 ...
具有多重半透光部之半調式光罩及其製造方法
https://patentimages.storage.g
A half tone mask is characterized in that the half tone mask having at least one or more half permeation parts capable of adjusting a transmittance by ...