OBIRCH:Optical Beam Induced Resistance Change (OBIRCH)

Optical Beam Induced Resistance Change (OBIRCH)

Optical Beam Induced Resistance Change (OBIRCH)

OBIRCHisatechniquefordeterminingthesizeandlocatingofdefectsbyutilizingthefactthattheresistivitychangesduetotheheatingofthedefective ...。其他文章還包含有:「EMMI和OBIRCH傻傻分不清?」、「OBIRCH」、「名針探精準定位讓奈米電性量測找出缺陷」、「激光束电阻异常侦测(OBIRCH)」、「电性失效分析(EFA)」、「雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)」、「雷射光阻值變化偵測(OBIRCH)」、「電性故障分析(EFA)」

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EMMI和OBIRCH傻傻分不清?
EMMI和OBIRCH傻傻分不清?

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OBIRCH正是基于半导体的这种效应的新型高分辨率微观缺陷定位技术,该技术依托于背面光发射显微镜,可以在大范围内准确并迅速定位集成电路中的微小失效点, ...

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OBIRCH
OBIRCH

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OBIRCH汎銓科技OBIRCH設備量充足,提供您迅速有效之分析服務!

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名針探精準定位讓奈米電性量測找出缺陷
名針探精準定位讓奈米電性量測找出缺陷

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EBIRCH 的原理與雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)相同,差異只是在OBIRCH 所用的激發源為「雷射」,受限於雷射波長的關係,其空間解析度約為微米(µm ...

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激光束电阻异常侦测(OBIRCH)
激光束电阻异常侦测(OBIRCH)

https://www.chinaisti.com

OBIRCH常用于芯片内部电阻异常(高阻抗/低阻抗)、及电路漏电路径分析。可快速对电路中缺陷定位,如金属线中的空洞、通孔(via)下的空洞,通孔底部高电阻区等,也能有效的检测 ...

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电性失效分析(EFA)
电性失效分析(EFA)

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OBIRCH · 倒置式镜头,wafer level分析简易,有效控制下针范围与力道 · 提供更好的时效性,解决pad状况不佳,无法打上线等制样问题 · 搭配电路编辑,有效降低讯号引出线后new ...

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雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)
雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)

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OBIRCH常用於晶片內部電阻異常(高阻抗/低阻抗)、及電路漏電路徑分析。可快速對電路中缺陷定位,如金屬線中的空洞、通孔(via)下的空洞,通孔底部高電阻區等,也能有效的檢測 ...

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雷射光阻值變化偵測(OBIRCH)
雷射光阻值變化偵測(OBIRCH)

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熱點偵測-雷射光阻值變化偵測 (OBIRCH). 主要利用雷射光束在IC表面掃描,雷射光束造成掃瞄區域內的材料被加熱,若IC中存在缺陷,附近區域的熱傳導不同於其它的完整 ...

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電性故障分析(EFA)
電性故障分析(EFA)

https://www.matek.com

OBIRCH · 倒置式鏡頭,wafer level 分析簡易,有效控制下針範圍與力道 · 提供更好的時效性,解決pad 狀況不佳,無法打線等製樣問題 · 搭配電路編輯,有效降低訊號引出線後new ...

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