aligner半導體：Semi
Semi
基本規格·Exposurelightsource:350W、500W、1KW、2KW·SubstrateSize:2~12·Uniformity:≦5%·AlignmentAccuracy:±1um·Throughput:≧70wph ...。其他文章還包含有：「ALIGNER」、「ManualMaskAligner」、「WaferAligner晶圓尋邊器」、「WaferAligner」、「WaferandDieAlignment–Electronics」、「晶圓尋邊器(電動)晶圓尋缺角器WaferAligner」、「曝光機(Aligner)」、「曝光機」、「曝光機MaskAligner設備如何執行量測?」
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ALIGNER
https://www.sanwa-eng.com.tw
高速定位對應薄片 · 採用高解析度Line CCD 光學辨位系統 · 獨創的演算法，快速推算出定位 · 對應透明、超厚、超薄、翹曲晶圓工件 · 優秀的感測能力，支援具Notch、平邊、雙平邊 ...
Manual Mask Aligner
https://www.mrnanotec.com.tw
基本規格. Exposure light source：350W、500W、1KW、2KW ; 應用領域. 應用範圍：. 半導體(Semiconductor)、微機電(MEMS) ; 選配功能. 可選配雙面對準製程. Back Side IR ( ...
Wafer Aligner 晶圓尋邊器
https://www.ckplas.com
承載半導體,二級發光體磊晶片、長晶片、晶圓片的容器使用在不同半導體,二級發光體長晶磊晶電池片製程中. 1.有多種材質可選擇，一般材質或抗靜電皆可提供
Wafer Aligner
https://www.burgeon.com.tw
伯堅為廣大半導體廠商推薦日本TAZMO，其品牌MAF-S與MAF-R系列之Aligner採用微接觸的方式接觸背面的方式，將晶圓的顆粒物汙染控制在最小，適用於直徑Φ2inch~Φ12inch晶圓 ...
Wafer and Die Alignment – Electronics
https://www.cognex.com
半導體製造流程的許多步驟都需要高度精準地對位，例如光刻流程、晶圓探測和測試、晶圓安裝及切割。為了滿足產業需求，半導體製造廠商採用只需極少人工介入的高速自動化 ...
晶圓尋邊器(電動) 晶圓尋缺角器 Wafer Aligner
https://www.ckplas.com
晶圓尋邊器/ 晶圓尋缺角器(6吋) / Wafer Aligner，承載半導體,二級發光體磊晶片、長晶片、晶圓片的容器使用在不同半導體,二級發光體長晶磊晶電池片製程中，將方向不同 ...
曝光機(Aligner)
https://www.rmt.com.tw
曝光機(Aligner) ... 主要是用來靠著光學成像原理，光線經過光罩成像到晶片表面上，晶片表面必須有如照相底片般之物質存在，屬於可感光之膠質化合物(光阻)， ...
曝光機
https://zh.wikipedia.org
另見其他需要半導體專家關注的頁面。 曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
https://www.goodtechnology.com
Mask Aligner 如何執行量測? 半導體在製程中，製作電路時利用光波於晶圓上進行曝光，製程若出現異常抖動容易產生不良品，該如何執行檢測預防? 預知監診 ...