aligner半導體：晶圓尋邊器(電動) 晶圓尋缺角器 Wafer Aligner
晶圓尋邊器(電動) 晶圓尋缺角器 Wafer Aligner
ALIGNER
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高速定位對應薄片 · 採用高解析度Line CCD 光學辨位系統 · 獨創的演算法，快速推算出定位 · 對應透明、超厚、超薄、翹曲晶圓工件 · 優秀的感測能力，支援具Notch、平邊、雙平邊 ...
Manual Mask Aligner
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基本規格. Exposure light source：350W、500W、1KW、2KW ; 應用領域. 應用範圍：. 半導體(Semiconductor)、微機電(MEMS) ; 選配功能. 可選配雙面對準製程. Back Side IR ( ...
Semi
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基本規格 · Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW · Substrate Size: 2~12 · Uniformity: ≦ 5% · Alignment Accuracy: ± 1um · Throughput: ≧ 70wph ...
Wafer Aligner 晶圓尋邊器
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承載半導體,二級發光體磊晶片、長晶片、晶圓片的容器使用在不同半導體,二級發光體長晶磊晶電池片製程中. 1.有多種材質可選擇，一般材質或抗靜電皆可提供
Wafer Aligner
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伯堅為廣大半導體廠商推薦日本TAZMO，其品牌MAF-S與MAF-R系列之Aligner採用微接觸的方式接觸背面的方式，將晶圓的顆粒物汙染控制在最小，適用於直徑Φ2inch~Φ12inch晶圓 ...
Wafer and Die Alignment – Electronics
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半導體製造流程的許多步驟都需要高度精準地對位，例如光刻流程、晶圓探測和測試、晶圓安裝及切割。為了滿足產業需求，半導體製造廠商採用只需極少人工介入的高速自動化 ...
曝光機(Aligner)
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曝光機(Aligner) ... 主要是用來靠著光學成像原理，光線經過光罩成像到晶片表面上，晶片表面必須有如照相底片般之物質存在，屬於可感光之膠質化合物(光阻)， ...
曝光機
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另見其他需要半導體專家關注的頁面。 曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
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Mask Aligner 如何執行量測? 半導體在製程中，製作電路時利用光波於晶圓上進行曝光，製程若出現異常抖動容易產生不良品，該如何執行檢測預防? 預知監診 ...