膜厚均勻度公式：濺鍍製程薄膜均勻性的研究
濺鍍製程薄膜均勻性的研究
CN101930938A
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本发明公开了一种监测膜厚均匀性的方法，包括如下步骤：第1步，在一个硅片的薄膜上，取硅片中心位置的一个或多个测量点测量膜厚，取硅片边缘位置的一个或多个测量点 ...
uniformity%的计算公式如何选择？
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uniformity%的计算公式如何选择？ 膜厚均一度有两个计算公式一个是（max-min)/(2*average)或者(max-min)/(max+min)，这两个公式到底如何选择，区别在哪儿.
什么是片内&片间均匀性？
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均匀性是衡量工艺在晶圆上一致性的一个关键指标。比如薄膜沉积工序中薄膜的厚度；刻蚀工序中被刻蚀材料的宽度，角度等等，都可以考虑其均匀性 ...
什么是片内&片间均匀性？ 转载
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均匀性是衡量工艺在晶圆上一致性的一个关键指标。比如薄膜沉积工序中薄膜的厚度；刻蚀工序中被刻蚀材料的宽度，角度等等，都可以考虑其均匀性 ...
利用田口方法改善液晶顯示器配向膜印刷均勻度
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首先利用專業知識，找出影響樹脂版印刷膜厚均勻度肇因，共彙整出4 個可能影. 響之因素，分別為乳凸排列方式、乳凸直徑、曝光能量、曝光時間共四個因子作為實. 驗之可控因子 ...
旋轉塗佈技術簡介
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優點. - 操作簡單，產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%)，大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。
矽碁科技股份有限公司
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單個12英寸晶圓用於沉積目標厚度為5nm的Al2O3和HfO2膜。使用橢偏儀進行27點厚度測量並輸入標準偏差公式。在±0.5nm範圍內和均勻度的5％以內。
薄膜量測標準
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待校晶片的薄膜厚度是. 由一週內5次個別量測的平均值所計算而得，. 而每一次量測所得的膜厚值是透過最小平方法. 的擬合，由ψ與Δ的線性回歸分析而得。 擴充不確定度的評估， ...