膜厚均勻度公式:矽碁科技股份有限公司

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單個12英寸晶圓用於沉積目標厚度為5nm的Al2O3和HfO2膜。使用橢偏儀進行27點厚度測量並輸入標準偏差公式。在±0.5nm範圍內和均勻度的5%以內。。其他文章還包含有:「CN101930938A」、「uniformity%的计算公式如何选择?」、「什么是片内&片间均匀性?」、「什么是片内&片间均匀性?转载」、「利用田口方法改善液晶顯示器配向膜印刷均勻度」、「旋轉塗佈技術簡介」、「濺鍍製程薄膜均勻性的研究」、「薄膜量測標準」

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CN101930938A
CN101930938A

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本发明公开了一种监测膜厚均匀性的方法,包括如下步骤:第1步,在一个硅片的薄膜上,取硅片中心位置的一个或多个测量点测量膜厚,取硅片边缘位置的一个或多个测量点 ...

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uniformity%的计算公式如何选择?
uniformity%的计算公式如何选择?

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uniformity%的计算公式如何选择? 膜厚均一度有两个计算公式一个是(max-min)/(2*average)或者(max-min)/(max+min),这两个公式到底如何选择,区别在哪儿.

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什么是片内&片间均匀性?
什么是片内&片间均匀性?

http://www.allinabc.com

均匀性是衡量工艺在晶圆上一致性的一个关键指标。比如薄膜沉积工序中薄膜的厚度;刻蚀工序中被刻蚀材料的宽度,角度等等,都可以考虑其均匀性 ...

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什么是片内&片间均匀性? 转载
什么是片内&片间均匀性? 转载

https://blog.csdn.net

均匀性是衡量工艺在晶圆上一致性的一个关键指标。比如薄膜沉积工序中薄膜的厚度;刻蚀工序中被刻蚀材料的宽度,角度等等,都可以考虑其均匀性 ...

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利用田口方法改善液晶顯示器配向膜印刷均勻度
利用田口方法改善液晶顯示器配向膜印刷均勻度

https://www.scu.edu.tw

首先利用專業知識,找出影響樹脂版印刷膜厚均勻度肇因,共彙整出4 個可能影. 響之因素,分別為乳凸排列方式、乳凸直徑、曝光能量、曝光時間共四個因子作為實. 驗之可控因子 ...

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旋轉塗佈技術簡介
旋轉塗佈技術簡介

http://synrex.com

優點. - 操作簡單,產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%),大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。

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濺鍍製程薄膜均勻性的研究
濺鍍製程薄膜均勻性的研究

https://tpl.ncl.edu.tw

從本文中可看出,以光譜強度的比值當. 作靶材的濺鍍速率,使用餘弦定律計算基板上. 的薄膜厚度分佈,其結果比較實驗結果,顯示. 良好一致性,具有即時監控薄膜均勻性的功. 能,也 ...

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薄膜量測標準
薄膜量測標準

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待校晶片的薄膜厚度是. 由一週內5次個別量測的平均值所計算而得,. 而每一次量測所得的膜厚值是透過最小平方法. 的擬合,由ψ與Δ的線性回歸分析而得。 擴充不確定度的評估, ...