倍縮光罩

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如同所有倍縮光罩一樣，運用在EUV微影技術上的倍縮光罩也須仰賴倍縮光罩傳送盒，以利安全存放，並於微影圖案成形、檢查、清潔與修復期間發揮保護作用 ...

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倍缩光罩（Reticle）：在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形 ...

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倍縮光罩（Reticle）：在投影式微影機中，光罩作為一個光學元件位於會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它並不和晶圓有直接接觸。光罩上的 ...

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光罩/倍縮光罩. 曝光. 經顯影. 負光阻. 紫外光. 正光阻. 基片. 基片. 基片. 光阻. 負光阻及正光阻. 基片. 光阻. 4. 光阻成分. • 高分子. • 溶劑. 1. 溶解高分子.

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上的誤差也會相對被縮小，這種形式的光罩被稱為倍縮. 光罩(Reticle)。步進式曝光機每次曝光時僅在晶圓上的局. 部區域進行曝光，這樣的區域我們一般稱為Die，曝光完.

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➤倍縮光罩(Reticle)：當光罩上的圖形線寬與投射到矽晶圓上的線寬不同有縮小，也就是尺寸n:1(目前晶圓廠內大多使用4:1到10:1)，光罩與晶圓(Wafer)上的晶片 ...