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晶圓背面研磨和金屬鍍膜製程bgbm

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FSM & BGBM
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http://www.rayteksemi.com

BG Thinning ability: 12 inch wafer : Min. 175 um, 8inch wafer: Min. 150 um. Enhance metal adhesion by sputtering process. Provide Bumping (SnAg Bump), RDL (Cu/ ...

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FSM化鍍服務無縫接軌BGBM晶圓薄化製程
FSM化鍍服務無縫接軌BGBM晶圓薄化製程

https://www.eettaiwan.com

... 正式跨攻「MOSFET晶圓的後段製程整合服務」,其中晶圓薄化-背面研磨/背面金屬化(Backside Grinding/Backside Metallization;BGBM)製程,在9月已 ...

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MOSFET 晶圓後段製程(BGBM)
MOSFET 晶圓後段製程(BGBM)

https://www.istgroup.com

在前段晶圓代工廠完成晶圓允收測試(WAT)後進行封裝(Assembly),如何進行晶圓薄化BGBM 與背金成長好不容易完成了晶圓減薄晶圓薄化與背金成長, ...

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TWI637431B
TWI637431B

https://patents.google.com

本發明提供一種晶背金屬化製程,包括:提供一晶圓;於晶圓之背面形成一種子層;以及利用化學鍍於種子層上形成一金屬層。

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功率MOSFET的FSM與BGBM製程改善
功率MOSFET的FSM與BGBM製程改善

https://www.edntaiwan.com

在完成了研磨及蝕刻後,利用蒸鍍機,即可將想要的金屬鍍膜完成,如圖15所示,BGBM完成後的橫切面(cross section),可以看到晶背蝕刻後,是有較大的粗糙度 ...

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技術應用
技術應用

https://www.ssa-tw.com

1.功率半導體. 絕緣閘雙極電晶體(IGBT)&晶圓背面研磨和金屬鍍膜製程(BGBM) · 2.晶背蝕刻/消除應力 · 3.MEMS微機電/DRY FILM · 4.III-V與II-VI族化合物半導體 · 5.金屬層 ...

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晶圓後段製程(BGBM)
晶圓後段製程(BGBM)

https://www.propowertek.com

ProPowertek 宜錦導入專業人才與先進製程, 協助您最短時間內完成晶圓薄化與背金增長(BGBM) · 多種研磨製程解決方案 · 多種背金解決方案 · 背銀厚度達15um甚至可客製化到40um ...

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晶圓薄化介紹
晶圓薄化介紹

https://www.psi.com.tw

晶圓薄化介紹 晶圓薄化事業部提供超薄化研磨、表面處理、金屬薄膜沈積、製程技術,並搭配晶圓測試,提供客戶全方位加工服務著稱。晶圓薄化技術充分因應市場對半導體 ...

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正面金屬& 背面研磨和金屬鍍膜(FSM & BGBM)
正面金屬& 背面研磨和金屬鍍膜(FSM & BGBM)

http://www.rayteksemi.com

機台特點: 使用Sputter機台, 降低晶背金屬層peeling的機率。 製程整合: 可搭配客戶需求提供晶片正面凸塊(SnAg Bump), RDL (Cu/Ni/Au Redistribution Layer) 及SFM ...

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製程服務
製程服務

https://www.chipbond.com.tw

BSM (Back Side Metallization) 是晶圓經過研磨薄化後,採用物理性沉積的方式,於晶圓背面進行金屬沉積,此金屬介層可提供元件散熱及降低元件阻抗,同時,亦可作為Die ...