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ok73比例

「ok73比例」文章包含有:「光阻稀釋劑」、「光阻稀釋液OK」、「輔助化學品」、「【中文發明名稱】微影圖案化的方法與系統」、「CN102053500A」、「可加工之無機及有機聚合物調配物、其製造方法及用途」、「第一章緒論」、「應用於FPD製程設備之橡膠耗材開發」、「我們的產品」

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ok73用途光阻液光阻劑 毒性去光阻劑 成分
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光阻稀釋劑
光阻稀釋劑

https://www.sfchem.com.tw

產品規格表 ; 品項 光阻稀釋劑(OK-73), SDS中文 ; 品項 光阻稀釋劑(PP-82), SDS中文 ...

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光阻稀釋液OK
光阻稀釋液OK

https://www.newfast-semi.com

產品詳細 ; E1 (最高規), 500mL/Btl, 控管47種微量元素; 34種< 1 ppt, 常態性污染元素: 鋁(Al)、鈣(Ca)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、鉀(K)、汞(Hg)、鎂(Mg)、鎳(Ni)、硒(Se)、鈉(Na)、 ...

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輔助化學品
輔助化學品

https://www.tokamerica.com

可根據需要開發不同的混合比例. NMD-W (美國製造), 排他性為正, 表面活性劑 ... OK73 稀釋劑, 適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光 ...

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【中文發明名稱】 微影圖案化的方法與系統
【中文發明名稱】 微影圖案化的方法與系統

https://patentimages.storage.g

應注意,根據業界中的標準做法,多個特徵. 並非按比例繪製。事實上,多個特徵之 ... OK73,溶劑OK73. 為具有70%重量之丙二醇甲醚(Propylene glycol. 醇甲醚(Propylene.

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CN102053500A
CN102053500A

https://patents.google.com

当使用的胶液是有机材料时,溶剂可以是OK73,即使用光刻胶中的溶剂丙二醇甲醚(PGME)和丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)以7∶3的比例混合得到的溶剂,也可以是PGME和PGMEA以其它比例混合 ...

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可加工之無機及有機聚合物調配物、其製造方法及用途
可加工之無機及有機聚合物調配物、其製造方法及用途

https://patents.google.com

在一些實施例中推薦使用PGMEA、OK73及乙酸乙酯作為預濕潤溶劑。OK73為TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD製造的通常用於邊緣珠粒移除之有機溶劑,其含有3:7比率之丙二醇單甲醚 ...

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第一章緒論
第一章緒論

https://ir.lib.nycu.edu.tw

b. 顯影液: NMD-W 2.38%。 c. 溶劑:OK-73 半導體最廣泛使用之溶劑。 第四章實驗結果與討論 ...

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應用於FPD製程設備之橡膠耗材開發
應用於FPD製程設備之橡膠耗材開發

https://www.materialsnet.com.t

本計畫主要針對用於G5.5 、G6 、G7.5 之Slit Coater 噴嘴橡膠刮刀(TFT-LCD 之光阻塗佈方式)進行開發,其關鍵技術在於橡膠刮刀必須耐光阻清潔劑(例如OK-73 ...

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我們的產品
我們的產品

https://www.tokamerica.com

可根據需要開發不同的混合比例. NMD-W (美國製造), 獨家為正, 表面活性劑 ... 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。 對所有抗蝕劑具有良好的溶解性. OK73 稀釋劑 ...