光罩原理

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1982年IBM Mr. David Levenson發明. 了相位移光罩，主要的原理是利用相鄰. 光束的電場相位移180度，形成破壞性干. 涉(Destructive interference)，使得空間影. 像(Aerial ...

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光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。

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微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

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所以漸變式光罩的. 技術原理乃是利用光罩之通光量在不同位置上的變化,使得在經過光學投影系統. 的曝光後塗佈在晶片上的光阻得到曝光強度在不同位置上的分佈,因此在光阻中.

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光罩是在積體電路，如LSI，的製造過程中使用的必要基本設備。它是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為晶圓製造廠大量生產所 ...