旋轉塗佈厚度

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... 塗佈液體，利用旋轉離心力的方式平均散布液體於物件上並快速甩出多於液體並令其形成一層薄膜，而轉速大小、旋轉時間、乾燥速度等都將影響薄膜形成的厚度。另外，在製程 ...

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光阻塗佈是半導體製程中一個非常重要的步驟，我們經常要在晶圓上塗佈一層光阻劑，其厚度最薄可能是100奈米（1奈米=十億分之一米），最厚可能是50微米（1 ...

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將少量溶膠或凝膠塗佈在基底的中心，接著將基材在高速旋轉下利用離心力散布塗料，繼續轉動使流體旋轉至基材邊緣直到達到所需的膜厚。該薄膜的厚度取決於 ...

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塗佈膜厚均一性良好，但最重要的控制是在於化學物質的厚度，即稱為膜厚(Film Thickness)，控制參數. 是旋轉數(RPM)及旋轉時間，轉數越快膜厚越薄，旋轉時間越長膜厚越薄， ...

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旋轉塗佈是流體離心力與黏滯力. 平衡的結果，光阻在基板上的厚度依黏. 度、轉速及旋轉時間而定。若光阻是牛. 頓流體，則光阻厚度與所在位置無關，. 即從中心到邊緣厚度都 ...

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... 厚度及均勻度有所影響；光阻液的黏度與溶劑的揮發性都會影響到旋轉塗佈薄膜的厚度，黏度越大薄膜會越厚，揮發性越大薄膜會越厚；旋轉時間增加雖然可使旋轉塗佈薄膜的厚度 ...

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優點. - 操作簡單，產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%)，大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。

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旋轉塗佈(Spin Coating)是利用轉盤高速旋轉離心力，將基材上的塗料進行厚度均化的過程，在平滑的工件上獲得薄且均勻的塗膜。旋轉塗佈的應用常見包括在半導體、平面 ...