真空鍍膜原理

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在高真空的腔體中，放入所要蒸鍍的材料，利用電熱絲或電子束加熱升溫達到熔化、氣化溫度，使材料蒸發，附著在基板表面上的技術。濺鍍(sputtering)是在真空條件下通入惰性氣體，利用高電壓將高能量粒子轟擊靶材表面，將靶材表面的物質濺出附著堆積在基板或薄膜上。

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熱阻式蒸鍍技術的原理是在高真空環境中，將所欲蒸鍍的材料放置在金屬舟（metal boats）或坩鍋（材質可為PBN或石英等）中，利用電流通過加熱體時因電阻產生的溫度對材料做間接加熱 ...

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1.將薄膜材料由固態變成氣體 · 2.薄膜的氣態原子、分子或離子穿過真空抵達基板表面 · 3.薄膜材料沈積在基板上逐漸形成薄膜 · 此過程中皆有可能發生化學變化或 ...

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【原理】. 真空鍍膜是在高真空狀態下利用物理方法在物件的表面鍍上一層薄膜的技術。真空是指氣壓低於一個大氣壓的氣體狀態。在真空狀態下，單位體積中的氣體分子數大.

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(A)真空蒸鍍法原理,在真空中把製作薄膜的金屬加熱蒸發,使其附著在適當的表面上,用這種方法製作的薄膜稱為真空鍍膜。真空蒸鍍法是物理氣相沉積一種· 與濺射鍍金法和離 ...

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原理: – 利用熱電偶測量發熱體在真空中的溫度變化所產生的電動勢造成熱. 電偶電路 ...

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達到熔化溫度，使之熔解然後氣化，此時氣態之薄膜材料之原子或分子因同時具有加溫後的動能，而飛向基座，到達並附著在基板表面上的一種鍍膜技術。定義：分子平均兩次碰 ...