研磨廢水處理
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半導體製造業化學機械研磨廢水特性及其處理
https://proj.ftis.org.tw
CMP廢水中，包括了研磨液本身和晶片清洗液，其中研磨液裡又視研磨砥粒. 的分散狀況而添加分散劑（ dispersing agents）、改變表面電性的界面活性劑. （surfactants）、調整 ...
台積公司首創全物理性晶背研磨廢水再生技術
https://esg.tsmc.com
同時，全新應用之晶背研磨廢水再生技術，領先業界以全物理性的板框壓濾程序，完全取代添加化學藥劑，壓濾後的產水經逆滲透過濾處理後符合台積公司次級用水 ...
水回收技術評選
https://www.edf.org.tw
半導體廠化學機械研磨(CMP)廢水成份複. 雜、處理困難，早期多以化學混凝法處理，但. 成本偏高且不具回收價值，因此近期已有其他. 處理技術陸續被發展研究。 針對單一處理 ...
在晶圆研磨的废水处理过程中不使用化学药剂采用高浓缩和 ...
https://www.fujitsu.com
處理工廠排出研磨廢水時，純水回收（UF）設備的迴圈處理過程中，幾乎都是利用化學. 藥劑（PAC、高分子凝聚劑、NaOH）對濃縮廢液進行處理，經過凝聚→沉澱→過濾→壓 ...
振動研磨廢水處理新方案! 處理廢水同時達成汙泥減量
https://tw.kelly-eco.com
振動研磨是利用磨料、加工液研與磨劑放入振動機中，利用振動相互摩擦的原理將欲處理的工件表面平滑化，去除原本粗糙凹凸的表面。而振動研磨廢水主要含有 ...
半導體晶圓廠機械研磨(CMP)廢水的處理(上)
https://www.seya.com.tw
CMP研磨程序於研磨時會添加研磨液磨光，研磨後，再以純水混和清洗劑洗淨。而其中成份包含：有機污染物(金屬錯合劑、分散劑、介面活性劑、腐蝕抑制劑和酸性物質等。)，與 ...
銅製程化學機械研磨廢水化學性質與處理
http://ecaaser5.ecaa.ntu.edu.t
實際的製程. 系統，由於更多不同的廢水相混，會使廢水中銅濃度進一步降低。 一般化學機械研磨廢水處理. 化學機械研磨廢水藉混凝與凝絮處理後微濾，可以有效去除污. 染物質 ...
半導體廠化學機械研磨廢水處理技術之比較研究
https://ndltd.ncl.edu.tw
目前廢水處理方法主要有化學混凝法、薄膜過濾法、電化學法、氣泡浮除法、磁分離法等五大類。依指標評比之結果，技術可行性以化學混凝法最佳，磁分離法最劣；處理效能以薄膜 ...
再生晶圓是什麼？晶圓研磨廢水怎麼處理？一篇了解研磨製程
https://www.gve.com.tw
在傳統的晶圓研磨廢水處理中，中空纖維超過濾（Ultrafiltration, UF）技術、沉澱槽－混凝沉澱法是兩種主要且常見的方法。「中空纖維超過濾技術」是利用 ...