euv光罩材質：極紫外光微影光罩檢測技術
極紫外光微影光罩檢測技術
Provide From Google
Centura Tetra EUV 先進光罩蝕刻系統
https://www.appliedmaterials.c
Centura Tetra EUV 系統藉由專門的設計，可針對EUV 光罩製程中採用的新材料及複合薄膜堆疊進行蝕刻，能在以這種反射模式操作時，符合嚴格的圖案精度、表面平滑度和缺陷等 ...
Provide From Google
TWI477927B
https://patents.google.com
一種極紫外光(EUV)光罩之製法，包括以下步驟：提供一低熱膨脹材料(low thermal expansion material,LTEM)基板；沉積一導電層於該低熱膨脹材料(LTEM)基板之一第一表面上； ...
Provide From Google
提升EUV微影製程良率新一代光罩檢測系統幫大忙
https://www.eettaiwan.com
Provide From Google
極紫外光微影之高階材料檢測分析
https://www.materialsnet.com.t
相較於電子束微影，EUV干涉微影具有高吞吐量、高解析度、大面積及高密度週期性圖案化能力，搭配干涉式光柵光罩(Grating Mask)的組合，可產生直線與圓洞等 ...
Provide From Google
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
EUV光罩與傳統光罩也截然不同，具複合多塗層反射鏡(分散式布拉格反射器)的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。這種多層膜光罩雖然可維持光罩的反射率，但另一方面會影響 ...