鎢 蝕刻 液：TiW etchant(鈦鎢蝕刻液
TiW etchant(鈦鎢蝕刻液
CN112522707A
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本发明涉及一种高选择比的钨蚀刻液。该蚀刻液由双氧水、无机酸、有机碱、二乙二醇单丁醚、金属离子掩蔽剂和去离子水组成。无机酸为硫酸、磷酸中的至少一种，有机碱为辛 ...
CN112981405B
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一般是分步蚀刻，先将UBM上层的铜种子层蚀刻去除，再将裸露出的下层钛(Ti)或钛钨(TiW)粘附层蚀刻去除。 目前市面上使用的钛钨(TiW)蚀刻液一般是含有氢氟酸或同时含有硝酸或 ...
TiW etchant (鈦鎢蝕刻液)
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Ti/W etchant (鈦鎢蝕刻液). 商品編號： CAS No.： 濃度： 規格：電子級包裝：4L/瓶 20kg/桶 ＊欲詢價的客戶，請下載詢價單（如下檔案下載），填寫完畢後，
蝕刻液
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提供高品質的蝕刻液。應用於半導體製程、高階IC 封裝、光電產業、矽晶圓薄化/粗化/光化/應力去除等製程。 提供不同蝕刻率或客製化，以對應各種製程應用的需求。
金屬蝕刻液
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金屬蝕刻液. 品化科技為台灣金屬蝕刻液的專業供應商。 品化科技提供高品質的蝕刻液。主要客戶為各大學院校、研究單位、國內半導體光電大廠。
金屬蝕刻液(Metal Etchant)
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標準鈦鎢蝕刻液. 鈦鎢, TiW Etch-833, UBM 鈦鎢蝕刻液(不產生放熱效應). 矽, Si Iso-Etch 1-20-5, 對氧化矽具選擇性，且不蝕刻氮化矽. 矽, Nodule Etch-792, 適用於鋁蝕刻後 ...
鈦鎢蝕刻液
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鈦鎢蝕刻液以酸性雙氧水為基底進行鈦鎢底材蝕刻，且可減少金凸塊與鈦鎢底層之間的賈凡尼效應，達到加速並有效減少側蝕。
鈦鎢蝕刻液
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添鴻科技的雙氧水複合配方型鈦鎢蝕刻液可以在較低溫度40˚C使用，並且添加雙氧水安定配方，提高製程的安全性及穩定性。
钛钨蚀刻液
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钛钨蚀刻液以酸性双氧水为基底进行钛钨底材蚀刻，且可减少金凸块与钛钨底层之间的贾凡尼效应，达到加速并有效减少侧蚀。