euv波長:摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機
摩爾定律的華麗謝幕:EUV微影機
EUV是個什麼酷東西? — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術
https://semiknow-official.medi
EUV,全名為Extreme Ultraviolet,中文叫做「極紫外光」,是一種波長極短的紫外光,一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米,而極紫外光 ...
全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光
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極紫外光(Extreme ultraviolet, EUV)是波長小於13.5 奈米的光,使用EUV 作為光源的曝光機,即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少, ...
挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程
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EUV 微影技術採用錫的電漿來產生波長為13.5 奈米的光源,以及用鉬矽多層反射薄膜來把光傳遞到晶片上。不同於一般的紫外光微影技術,EUV 微影技術得在低 ...
新一代製程的關鍵:13.5奈米的「極端」紫外光
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它的優點是波長的匹配:其波長13.5奈米和EUV常用的光學元件(通常是鉬和矽的多層結構)搭配的很好,反射率可以高達60%以上。它的缺點是副產物:受雷射照射後 ...
极紫外光刻
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極紫外光微影(英語:Extreme ultraviolet lithography,EUVL)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光(EUV)波長的微影製程(lithography)技術,目前用于7納米 ...
極紫外光微影製程
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EUV微影製程選擇第二中作法,將光源波長降低13.5奈米來提升電路圖案解析度,由於EUV波長太短,非常容易被大氣吸收,因此此道製程需要在真空環境中完成。目前EUV微影製程機台由 ...
極紫外輻射
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極紫外輻射(英語:Extreme ultraviolet radiation)或高能紫外輻射,簡稱EUV、XUV,是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射,對應光子能量為10eV到124eV。
藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射
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EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案:透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但如何先形成電漿?發生器讓錫滴落入真空室(3), ...