euv波長：挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程
挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程
EUV是個什麼酷東西？ — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術
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EUV，全名為Extreme Ultraviolet，中文叫做「極紫外光」，是一種波長極短的紫外光，一般生活中要塗乳液防曬的紫外線波長約在100~400奈米，而極紫外光 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
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極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少， ...
摩爾定律的華麗謝幕：EUV微影機
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微影機的光源坐落於紫外光，波長介於10~400奈米之間。從早期的光源來自於汞燈的g-line及i-line，一旦製程線寬小於100奈米，所使用的光源 ...
新一代製程的關鍵：13.5奈米的「極端」紫外光
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它的優點是波長的匹配：其波長13.5奈米和EUV常用的光學元件(通常是鉬和矽的多層結構)搭配的很好，反射率可以高達60%以上。它的缺點是副產物：受雷射照射後 ...
极紫外光刻
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極紫外光微影（英語：Extreme ultraviolet lithography，EUVL）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一种使用極紫外光（EUV）波長的微影製程(lithography)技術，目前用于7納米 ...
極紫外光微影製程
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EUV微影製程選擇第二中作法,將光源波長降低13.5奈米來提升電路圖案解析度，由於EUV波長太短,非常容易被大氣吸收,因此此道製程需要在真空環境中完成。目前EUV微影製程機台由 ...
極紫外輻射
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極紫外輻射（英語：Extreme ultraviolet radiation）或高能紫外輻射，簡稱EUV、XUV，是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射，對應光子能量為10eV到124eV。
藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射
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EUV光刻的一大挑戰在於產生13.5奈米的最佳波長光束。解決方案：透過雷射射束生成提供極短波長光束的發光電漿。但如何先形成電漿？發生器讓錫滴落入真空室(3)， ...