dnq光阻
「dnq光阻」熱門搜尋資訊
CN1280676C
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正型光阻剂目前主要用在IC产业中作为薄膜光阻，可依曝光光源分为I-Line的DNQ/Novolac系统及深紫外光的化学增幅型系统两种。DNQ/Novolac系统光阻剂的涂布厚度一般约为0.5～ ...
DNQ
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隨著微影技術的蓬勃發展，使半導體技術可以在相同的面積下設計更多的電路，也因此產生許多速度更快，功能更多，容量更大電子產品，其中在微影技術中扮演關鍵角色的光阻 ...
KrF深紫外光光阻劑之發展及現況
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因此，. Novolac/DNQ i-line光阻並不適用於深紫. 外光微影製程，深紫外光的微影技術需. 要革命性的光阻成像機制，才足以克. 服。 化學增幅型光阻系統. 之基本原理. 為了 ...
光阻劑
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負光阻及正光阻. 基片. 光阻. 4. 光阻成分. • 高分子. • 溶劑. 1. 溶解高分子. 2. 允許光阻藉 ... 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. • 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻.
光阻劑
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光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...
光阻與顯影液
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以DNQ-Novalak型光阻為例，在曝光過程中，感光劑DNQ，會進行光化學反應，形成所謂的光酸,Photo-acid。 正型光阻下，顯影就是將曝光區域除去；而負型光阻則是去除 ...
半導體光阻材料技術
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G-line/I-line光阻劑的主要組成為酚醛樹脂(Novolac Resin)與感光物重氮萘(Diazo-naphtho-quinon; DNQ)。酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當 ...
基於酚醛清漆樹脂／重氮萘醌（dnq）之化學增幅型光阻
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本發明係關於光阻組合物，其包含聚合物組分、光酸產生劑組分(PAG)、光敏性重氮萘醌組分(PAC)、鹼組分、溶劑組分及視情況選用之雜環硫醇組分。該聚合物組分為酚醛清漆 ...
永光邁向晶圓級封裝市場布局化學增幅型光阻劑
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林昭文指出，由於I-line曝光機搭配傳統DNQ光阻劑的能力有所限制，可改用化學增幅光阻來提升電晶體線路的解析度，來提高顯示器的畫素及畫質。 他解釋說， ...
顯影液
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以DNQ-Novalak型光阻為例，在曝光過程中，感光劑DNQ，會進行光化學反應，形成所謂 ... 正型光阻下，顯影就是將曝光區域除去；而負型光阻則是去除未曝光區域。 曝光區與 ...