深紫外光刻機
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極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影 ...
ASML
https://www.asml.com
我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
https://www.charmingscitech.na
極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少，關鍵 ...
整理包／英特爾拿下全球首台高數值孔徑EUV設備一 ...
https://money.udn.com
DUV（Deep Ultraviolet Lithography）曝光機採用「深紫外光」，波長193nm，主要應用在7奈米以上的成熟製程。 EUV（Extreme Ultraviolet Lithography）曝光機採用的光源 ...
極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術
https://www.nari.org.tw
爾後隨製程. 線寬不斷微縮，光源波長也從i-line(365 nm 波長)到利用惰性氣體和鹵素分子結. 合激發的深紫外光(DUV)準分子雷射光源，如氟化氪(KrF)產生的248 nm 波長和. 氟 ...
極紫外光(EUV)微影技術：半導體製造的革命性突破
https://wish.with.tw
從1980年代到2000年代，深紫外(DUV)光刻推動了下一代微型化，使用了範圍在153到248奈米的更短波長，這允許在半導體的矽晶片上留下更小的印記。 在迎接 ...
中芯利用ASML深紫外光刻機製造華為7奈米晶片成本是 ...
https://tw.news.yahoo.com
《彭博》最新報導證實中國華為Mate 60 Pro的晶片是由中芯國際利用ASML的深紫外光刻機（DUV）製造，勢必會導致美國要求荷蘭ASML嚴格執行晶片設備禁令，但這 ...
ASML已出貨第二台High NA EUV光刻機，市場認為可能是 ...
https://uanalyze.com.tw
這些機器每台約價值3.5億歐元（合3.7億美元），這種昂貴且先進的機台可以讓客戶避免雙重或四重曝光（為了微縮）所造成的良率低情況，具有高數值孔徑的新型 ...
EUV光刻，最終勝出！
https://www.usmartsecurities.c
回顧光刻技術發展歷程，隨着工藝節點的不斷縮小，光刻技術主要經歷了紫外光刻技術（UV）、深紫外光刻技術（DUV）和極紫外光刻技術（EUV）。 ... 根據光刻機所用光源改進和 ...
台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密
https://www.iqvalue.com
在2004年之前，光刻設備機主要以光為介質，偏偏這個時候，台積電的研發副總林本堅 ... DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線 ...