曝光機原理：UV曝光機光學
UV曝光機光學
半導體產業不可或缺的曝光機，是「這些企業」的心血結晶！
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從原理上看，這種方法是使用一個非常高功率（超過30kW 平均脈衝功率的激光數，其脈衝峰值功率可高達幾兆瓦）的激光脈衝，打在不斷滴下的錫珠，然後轉化 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
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簡單來說，當工程師規劃好晶圓上各區域的功能後，會將電路圖刻在石英片上面，製作成「光罩」，當光束從光罩上方照下來，透過由透鏡組成的光學系統，照射到 ...
曝光機
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曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描 ...
半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買 ...
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曝光機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜（Mask，後來也叫光罩）投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻掩膜版以1：1的尺寸緊 ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
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可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光機（ ...
黃光微影製程技術
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類似投影機原理，將光罩上的圖. 形投影到光阻上。優點就是解析. 度可以很高，要配合 ... 電子束曝光系統的優點就是可以直接生產所需的圖. 形，利用線圈的電場或磁場 ...
先進光學曝光系統與極紫外光(EUV)就?
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將光罩上的圖形縮小之後轉移到矽晶圓上所使用的方法稱為「黃光微影(Photolithography)」，因此所使用的機台稱為「光學曝光機(Photolithographer)」，這是晶圓廠裡最貴 ...
解讀《晶片戰爭》：世界上最複雜的機器「EUV曝光機」
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ASML是荷蘭公司，目前也只有他們能夠掌握EUV曝光機，但他們的護城河是用「數十年的時間」+「全球化供應鏈管理」+「數百億美金」，打造一台猶如從地球 ...
整理包／英特爾拿下全球首台高數值孔徑EUV設備一 ...
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EUV、DUV曝光機對半導體先進製程相當重要，原理是「光學微影」技術，簡單來說就是「在晶圓上刻出精細的電路」，這是量產晶片時最重要的步驟。 利用 ...