光阻去除機:光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務
光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務
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EBR
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EBR-1200 晶邊光阻去除機 · Wafer Size: 300mm Wafer · 洗邊精度±0.2mm · 全自動Solvent Supply · 支援SECS/GEM · 符合Class 100無塵等級.
![FUSION OZONE 光阻去除機儀器簡介](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/FUSION+OZONE+%E5%85%89%E9%98%BB%E5%8E%BB%E9%99%A4%E6%A9%9F%E5%84%80%E5%99%A8%E7%B0%A1%E4%BB%8B.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
FUSION OZONE 光阻去除機儀器簡介
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Mattson AspenII Ashere光阻去除機. 儀器簡介. 主要功能. 光阻去除. 光阻材料. 本實驗室曝光機台(G-line, I-line及E-Bean)使用之光阻. 3.使用限制: 本機台屬於半導體製程 ...
![PR Stripper](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/PR+Stripper.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
PR Stripper
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... 光阻去除,利用單晶 ... Mask clean光罩清洗機目前主要產品應用於清洗9吋及14吋光罩,清洗方式為利用旋轉光罩配合高壓水、毛刷清洗或是化學品噴灑於光罩上去除沾黏的光阻。
![光阻去除與晶圓清洗產品](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E5%85%89%E9%98%BB%E5%8E%BB%E9%99%A4%E8%88%87%E6%99%B6%E5%9C%93%E6%B8%85%E6%B4%97%E7%94%A2%E5%93%81.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
光阻去除與晶圓清洗產品
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光阻去除可去除離子植入或蝕刻步驟之後的光阻薄膜與殘留物。為了清除微粒、汙染物、殘留物、以及其它不必要的材料,晶圓清洗步驟會在整個製造過程中重複執行多 ...
![半導體製程類設備](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E5%8D%8A%E5%B0%8E%E9%AB%94%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E9%A1%9E%E8%A8%AD%E5%82%99-+%E7%80%9A%E6%9F%8F%E7%A7%91%E6%8A%80prohanns.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
半導體製程類設備
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曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版,並搭配顯影劑使用,去除晶圓表面的光阻,以形成積體電路圖案。該設備應用於12吋的晶圓曝光使用。 相關應用. 半導體 ...
![晶圓金屬、光阻去除清洗設備(MLT)](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E6%99%B6%E5%9C%93%E9%87%91%E5%B1%AC%E3%80%81%E5%85%89%E9%98%BB%E5%8E%BB%E9%99%A4%E6%B8%85%E6%B4%97%E8%A8%AD%E5%82%99%28MLT%29+-+%E4%BF%A1%E9%96%8E%E7%A7%91%E6%8A%80%E6%9C%89%E9%99%90%E5%85%AC%E5%8F%B8.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
晶圓金屬、光阻去除清洗設備(MLT)
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營業產品範圍: 1.金屬與光阻去除、清洗機-Metal Liftoff and PR Stripper Tool (MLT) 2.金屬蝕刻機–Spin Etching Tool (SET) 3.光阻塗佈機、顯影機-Spin Coater Tool ...
![水平式(枚页式)高速显影-蚀刻](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E6%B0%B4%E5%B9%B3%E5%BC%8F%28%E6%9E%9A%E9%A1%B5%E5%BC%8F%29%E9%AB%98%E9%80%9F%E6%98%BE%E5%BD%B1-%E8%9A%80%E5%88%BB-%E5%8E%BB%E5%85%89%E9%98%BB-%E6%B8%85%E6%B4%97%E6%9C%BA.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
水平式(枚页式)高速显影-蚀刻
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设备概要: · 产速:0.1 ~ 3m / min · 板面尺寸:100 mm X 100 mm ~ 550 mm X 650 mm · 可处理板厚:0.3 ~ 2mm · 含承水盘,蚀刻槽加热冷却温控 · Chemical槽采水刀冲蚀 ...
![複合式微波電漿光阻去除機](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E8%A4%87%E5%90%88%E5%BC%8F%E5%BE%AE%E6%B3%A2%E9%9B%BB%E6%BC%BF%E5%85%89%E9%98%BB%E5%8E%BB%E9%99%A4%E6%A9%9F.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
複合式微波電漿光阻去除機
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產品詢問 · 1.適用於8″/12″晶圓 · 2.系統可選擇2~6個製程腔 · 3.穩定的傳輸系統 · 4.全面數位控制系統,具備聯網功能