ocd量測原理
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TWI631314B
https://patents.google.com
利用光學臨界尺寸(ocd)計量之結構分析用於光學參數模型之最佳化方法、非暫時性之機器可存取儲存媒體及用以產生所模擬繞射信號以利用光學計量判定用以在晶圓上製造結構 ...
【Study】光学关键尺寸（OCD）测量的原理和方法
https://picture.iczhiku.com
【Study】光学关键尺寸（OCD）测量的原理和方法——《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》 ... 编者按：中国科学院大学微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。
光刻技术：光学关键尺寸测量（OCD）原理
http://news.eeworld.com.cn
光刻技术：光学关键尺寸测量（OCD）原理 · 如何利用现代示波器实现准确测量（二） · 泰克MDO3000混合域示波器的测量应用 · TI 可适用于低流速的高精度 ...
晶圓量測與製程控制技術夯先進製程良率再添進程
https://www.semi.org
... 量測電晶體尺寸，且隨著製程線寬越來越細，OCD 技術也不斷與時俱進，在量測敏感度、精準度方面屢有突破。但由於現在的電晶體結構已朝 3D 發展，OCD ...
橢圓偏振技術
https://zh.wikipedia.org
基本原理 編輯 ... 此技術係在測量光在入射樣品時，其反射光偏振性質與入射光偏振性質的改變。通常，橢圓偏振在反射模式下進行。偏振性質的改變主要是由樣品的性質，如厚度、 ...
臨界尺寸量測方法最佳化之研究
https://ir.nctu.edu.tw
第二章、文獻回顧：包含半導體製程介紹、黃光微影製程原理介紹、臨界. 尺寸(Critical Dimension, CD)量測原理與控制方式、先進製程控制. 系統、多變量分析理論、多準則決策 ...
高深寬比微結構之創新光學散射關鍵尺寸量測技術
https://www.tiri.narl.org.tw
本研究發展了一創新之光學關鍵尺寸量測(OCD) 系統與技術，用以克服目前於先進封裝 ... 本研究所提出之系統的量測原理如圖2 所示。基於光譜反射術的架構，此系統採用了 ...