光阻去除機
「光阻去除機」熱門搜尋資訊
EBR
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EBR-1200 晶邊光阻去除機 · Wafer Size: 300mm Wafer · 洗邊精度±0.2mm · 全自動Solvent Supply · 支援SECS/GEM · 符合Class 100無塵等級.
FUSION OZONE 光阻去除機儀器簡介
https://www.tsri.org.tw
Mattson AspenII Ashere光阻去除機. 儀器簡介. 主要功能. 光阻去除. 光阻材料. 本實驗室曝光機台(G-line, I-line及E-Bean)使用之光阻. 3.使用限制: 本機台屬於半導體製程 ...
PR Stripper
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... 光阻去除，利用單晶 ... Mask clean光罩清洗機目前主要產品應用於清洗9吋及14吋光罩，清洗方式為利用旋轉光罩配合高壓水、毛刷清洗或是化學品噴灑於光罩上去除沾黏的光阻。
光阻去除與晶圓清洗產品
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光阻去除可去除離子植入或蝕刻步驟之後的光阻薄膜與殘留物。為了清除微粒、汙染物、殘留物、以及其它不必要的材料，晶圓清洗步驟會在整個製造過程中重複執行多 ...
光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務
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濕式蝕刻主要是利用有機溶液對光阻進行結構性的破壞，使光阻溶於有機. 溶液中，以達成去光阻之目的。以這種方法進行光阻去除的溶劑，主要有丙酮. (Acetoone)及芳香 ...
半導體製程類設備
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曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。該設備應用於12吋的晶圓曝光使用。 相關應用. 半導體 ...
晶圓金屬、光阻去除清洗設備(MLT)
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營業產品範圍： 1.金屬與光阻去除、清洗機-Metal Liftoff and PR Stripper Tool (MLT) 2.金屬蝕刻機–Spin Etching Tool (SET) 3.光阻塗佈機、顯影機-Spin Coater Tool ...
水平式(枚页式)高速显影-蚀刻
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设备概要: · 产速：0.1 ~ 3m / min · 板面尺寸：100 mm X 100 mm ~ 550 mm X 650 mm · 可处理板厚：0.3 ~ 2mm · 含承水盘，蚀刻槽加热冷却温控 · Chemical槽采水刀冲蚀 ...
複合式微波電漿光阻去除機
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產品詢問 · 1.適用於8″/12″晶圓 · 2.系統可選擇2~6個製程腔 · 3.穩定的傳輸系統 · 4.全面數位控制系統，具備聯網功能