光阻塗佈原理

Chapter 3 元件製作與量測系統介紹

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b. 塗佈(spin coating):. 我們使用的光阻液為AZ5214，為正光阻。利用光阻塗佈機(spinner). 塗佈光阻，在塗佈時要注意光阻在樣品表面上的均勻性，才能得. 到穩定的光阻厚度 ...

光阻劑

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• 於光阻旋轉塗佈前進行HMDS蒸氣塗佈. • 在預烤製程中通常以臨場方式沈積. • 在光阻塗佈前以冷卻平板冷卻. 微影製程，底漆層. Page 8. 15. 底漆層蒸氣塗佈. 脫水烘烤. 晶圓.

光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務

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半導體用光阻劑之發展概況

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光阻劑為晶圓代工廠中，於微影製程之前，所需塗佈於晶元上之關鍵材料，如此晶圓方能進行後續電路加工製作，為更明確說明光阻劑於複雜的IC生產流程之使用 ...

半導體製造中的塗佈

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半導體製造製程中的塗佈，在以積體電路的基礎晶圓的表面處理、光阻劑塗佈、鍍膜等為目的的製程中，處處承擔著重要作用。KEYENCE「製程中的『塗佈』」，廣泛介紹透過 ...

國立中興大學

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塗底：上光阻前在晶片表面塗上一化合物，此步驟為塗底，藉由適當塗底晶片表面之表面能將被調整到與光阻表面能相當之程度，因此光阻對晶片表面的附著力便可增強。 光阻塗佈 ...

工學院半導體材料與製程設備學程

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曝光機的原理和照相機基本上是類似的，完成光阻塗佈的晶圓. 就如同底片一樣，而光罩就是我們要照的影像，只是曝光機的解析. 度比照相機好很多而且也複雜很多。曝光機可分成 ...

知識力

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... 光阻液被離心力甩開，在表面形成大約1μm的光阻層，光阻塗佈機的原理請參考這裡。 ➤軟烤(Soft baking)：以烤箱加熱使光阻中的溶劑揮發，此時光阻還有點軟 ...

第一章緒論

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其主要製程模組有上黏著劑槽（HMDS），使光阻與晶片能緊緊的貼牢；. 光阻塗佈槽（Coater）使光阻能均勻的塗 ... 化學倍增式光阻劑的反應原理乃透過帶能量的光源或粒. 子，與 ...

第三章實驗

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1. 旋塗上光阻，進行負光罩曝光。 2. 定影負光罩圖案。 3. 蒸鍍上金屬。 5. 藉由ACE 溶去光阻，帶走光阻. 上的金屬，留下所需金屬圖案。 圖3 . 7 lift–off 流程圖. 3 . 1 ...